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真空气氛箱式炉配备急停按钮,超温报警功能,提高了设备使用的安全性。加热腔室可用于真空或气氛环境下的物料焙烧。 真空气氛箱式炉广泛应用于材料科学、化工、金属热处理、电子工业等领域。它能够在无氧或低氧环境中进行加热,以避免氧化和其他不希望发生的化学反应。 真空气氛箱式炉的用途 材料退火:在真空或保护气氛中对金属材料进行退火,以消除内部应力,改善材料的微观结构。 化学气相沉积:在真空条件下进行化学反应,沉积薄膜或涂层。 烧结:在真空或特定气氛中烧结粉末材料,制备高性能的陶瓷或复合材料。 金属热处理:进行淬火、回火等热处理过程,改善金属的机械性能。 半导体加工:在特定气氛中进行氧化、扩散等工艺,制造半导体器件。 |
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